立式真空蒸发镀膜机

真空镀膜机主要由镀膜室、真空系统、电控系统等部分组成。而立式真空蒸发镀膜机的镀膜室结构主要由室体、球面行星转动基片架、基片烘烤装置、E型枪蒸发源、膜厚测量晶体、挡板等构件组成。室体可采用钟罩式或前开门式结构。钟罩式室体通常用于较小的镀膜装置(直径不大于500mm)，前开门式室体通常用于较大的镀膜设备。室体上均设置有观察窗。

基片烘烤装置的加热元件可采用电阻加热器、远红外加热管或碘钨灯等加热元件。根据镀膜工艺的需要，确定烘烤温度范围及其加热功率。

e型枪蒸发源固定在室体底板上，并且使其坩埚内的膜材蒸发平面基本上与球面基片架位于同一球面上，以便保证膜厚均匀。

挡板位于坩埚上方，由镀膜室外部的操作手柄使其遮挡膜材蒸汽流或移开挡板进行蒸镀。挡板的作用是为了提高膜层纯度，防止高蒸汽压杂质蒸镀到基片上。

膜层测量晶体是石英晶体测厚仪的传感器，可以实现镀膜过程的实时膜厚测量。目前在制备光学膜的镀膜机中。通常采用单色仪、测厚仪、光源及测试玻片组合而成的学光测厚系统。以测试玻片的膜厚表征基片膜厚，用单色仪接收到的光束信号实现膜厚的实时测量。

为了适应镀膜工艺的灵活性要求，在很多该类型的镀膜机中除了设置e型枪蒸发源外，还配备了电阻加热式蒸发源。